介质膜工艺监控量测机台MQL-ADCOS-300系列

产品介绍

ADCOS300非接触式在线电子监测和特性分析系统,采用COS技术,可对45纳米及以下节点的先进栅级电介质工艺进行控制。能实时提供先进栅极电介质材料物理和电气特性的高精度综合信息,以及重要的晶体管性能数据。适用材料包括氮化硅、高K介电材料、低K和超低K薄膜等后端薄膜的介电常数,满足45纳米以下设计规则要求。

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应用范围

  • 先进的闸门监控系统;
  • 在线污染监测;
  • 等离子工艺工具监控;
  • 低K值工艺开发;
  • 晶体管栅极关键参数的非接触式在线电子测量;
  • 氮化硅(SiON)和高K介电材料物理和电气特性;

  测量结果与FAB主流机台一致

  对接厂务自动化SECS/GEM

优势

  • 高级矫正算法,适用性强;
  • 采用整面光源,缩短加热激活时间,提升WPH;
  • 精准控制电荷量,提高测量准确性;
  • 高定位精度功能;
  • 延伸服务。